2013年度光子學(xué)及激光領(lǐng)域前20大進(jìn)展

網(wǎng)訊：光子學(xué)世界中的人們擅長(zhǎng)的是提出新奇的點(diǎn)子和發(fā)明有趣的新鮮事物，同時(shí)他們還不斷的推動(dòng)著現(xiàn)有的光子學(xué)技術(shù)進(jìn)步。接下來(lái)將為你帶來(lái)2013年度光子學(xué)及激光領(lǐng)域的前20大進(jìn)展：

及其測(cè)試方法

已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了商業(yè)化生產(chǎn)，第一臺(tái)產(chǎn)品在今年的早些時(shí)候被運(yùn)送到NADEX激光研發(fā)中心(位于日本名古屋)，該中心主要針對(duì)激光器的材料處理性能開(kāi)展詳細(xì)研究。對(duì)于這臺(tái)激光器，Ophir Photonics公司(位于猶他州北洛根)特意研發(fā)了一種激光功率計(jì)，在輸出1070納米的激光時(shí)，測(cè)程能夠覆蓋到100千瓦。

)進(jìn)行光刻而言，現(xiàn)如今的技術(shù)已經(jīng)發(fā)展到了極限，光刻技術(shù)的發(fā)展的新方向就是13納米的極紫外(EUV)光刻。與以前一樣的是，光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)越大，其分辨率越高。