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※ 精確、直接的液位測量，幾乎不受過程條件
的影響
※ 無活動(dòng)部件，維護(hù)量極少且無需重新標(biāo)定
※利用MultiVariable™液位與界面變送器，過
程穿孔更少，安裝成本更低
※ 兩線制技術(shù)和用戶友好的組態(tài)界面使得安裝
和調(diào)試簡單易行
※ 變送器功能全面、易于使用，具有穩(wěn)定的現(xiàn)
場可靠性
※ 高度的應(yīng)用零活性，擁有廣泛的過程連接、
導(dǎo)波桿類型和配件
測量原理
通過浸入過程介質(zhì)的導(dǎo)波桿引導(dǎo)低功率、納秒級(jí)微波脈沖，進(jìn)
行液位物位測量。當(dāng)微波脈沖抵達(dá)具有不同介電常數(shù)的介質(zhì)
時(shí)，部分能量被反射回變送器。
變送器利用第一次反射的余波測量界面位置。在上層產(chǎn)品表面
未被反射的部分微波繼續(xù)向下直達(dá)下層產(chǎn)品表面然后也被反射
回來。其波速完全取決于上層產(chǎn)品的介電常數(shù)。
發(fā)射脈沖與反射脈沖之間的時(shí)差被換算成距離，由此計(jì)算出總
體液位或界面位置。反射強(qiáng)度取決于被測產(chǎn)品的介電常數(shù)。介
電常數(shù)越高，反射強(qiáng)度越大。
導(dǎo)波雷達(dá)技術(shù)的優(yōu)勢
※ 無活動(dòng)部件、無需重新標(biāo)定，將維護(hù)工作減到最少
※ 直接液位測量意味著無需對(duì)不斷變化的過程條件 （如密度、
導(dǎo)電性、溫度和壓力）進(jìn)行補(bǔ)償
※ 適用于蒸汽和湍流工況
※ 適用于幾何形狀復(fù)雜的儲(chǔ)罐、小型儲(chǔ)罐或存在干擾物的儲(chǔ)
罐。
※ 易于升級(jí)
※ 由上而下的安裝方式可最大程度地降低泄漏風(fēng)險(xiǎn)
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